第233章 大师论坛！（1 / 2）

见到眼前的张坚仁此时暴跳如雷，刘希轮和邱梦生交换了一下眼神，随后起身告辞。

下午的时候，邱梦生将张坚仁的原话如实地向张君正做了汇报。

张君正呵呵一笑道：“这位张董骨子里还是瞧不上我们呀！”

他看着邱梦生说道：“我们还要继续努力，设计开发制造出更多的高端芯片才行。”

邱梦生点点头。

“张董，东积电集团那边现在正在和尼德兰那边的艾斯麦尔公司合作研发这种193纳米浸没式光刻机技术方案，他们已经在这种光刻机设备上开始开发相关的光刻工艺，我们是不是也进行跟进？”

邱梦生此时看着张君正开口问道。

“不用。”

张君正开口说道：“现在我们自己这种稳态微聚束光源系统正在开发原型机，再过个两到三年时间后我们就可以在这个光源系统上开发新型的EUV光刻机设备和相关的光刻工艺技术。”

之前张君正设计构思的这种融合了同步辐射光源和自由电子激光器两种系统的稳态微聚束光源系统技术概念通过唐思德这位高能核物理科学家带领的数十人科研团队对他提出来的这种技术概念在实验室里面搭建设实验设备得到了验证，证明了这个技术理念是可以行得通的。

现在唐思德带领的技术团队正在设计开发一套小型的稳态微聚束光源系统的原型机，原型机需要的电子枪、加速器、激光器等核心部件系统已经开始研制。

而张君正现在大部分精力也放在了这套原型机的设计研制当中，毕竟这关系到君正科技公司接下来十几二十年在芯片制造技术领域的前途命运，他自然是高度重视的。

目前这些半导体设备产商其实更多地是看重这种157纳米波长的光刻光源系统，不过这种光源波长很不好用，并且用这种光源系统在镜头、光刻胶、光罩等诸多环节上都能难倒一大片国外技术高手。

东积电集团内部的这位几年前加入的光刻技术专家林凡谷提出了这种193纳米浸没式光刻技术理念，并且在数年时间里面通过跟艾斯麦尔公司的合作开发出了光刻机样机。

这种技术方案很巧妙地利用193纳米波长光源通过纯水折射后将波长缩短到了132纳米，而且避开了所有157纳米的困难，可谓是极为巧妙的技术路线！

不过目前东积电集团和艾斯麦尔集团在共同研发当中已经申请了大量的技术专利，再加上这种技术方案理论上只能将芯片制程工艺推进到十纳米左右，再想继续推动芯片制程工艺的进步就只能用亚米利加国那家光源技术企业的13.4纳米波长光源技术方案了。

当然，现在得加上君正科技公司正在研制的这种稳态微聚束光源技术方案。

唐思德等人跟张君正在实验室里面搭建的原理样机出光后获得了27纳米波长光源，最短波长可以做到10纳米，不过这样的原理试验台系统功率非常小，只有几十纳焦的水平。

但是这套原理样机却让唐思德和张君正等人狂喜不已，并用这套原理样机做了相当多的试验测试，获得了唐思德和张君正之前非常想要的实验数据。

虽然说要想让接下来的光源系统原型机实现稳定可靠长时间工作还需要进行大量的技术攻关，不过这个技术方案已经见到了曙光，张君正是无论如何也要将这种技术路线的光刻机设备给做出来的！

至于这种193纳米波长的浸没式光刻机技术路线，君正科技公司只要保持技术跟踪就可以了。

东积电集团和艾斯麦尔合作研发出来的这种193纳米浸没式光刻机设备制造出来后又不是买不到，如果中间实在是买不到的话，张君正还是有自信让自己的技术团队仿制出来的。