第106章 取法于上，仅得为中，取法于中，故为其下（1 / 2）

第106章 取法于上，仅得为中，取法于中，故为其下

黄明玉走了。

就像是在命运长河里丢下了一枚不起眼的石子。

溅起了些许浪花。

黄明玉生前立下遗嘱，

丧事一切从简，

不举办追悼会，

也不举行遗体告别仪式。

更不必缅怀挂念，

好好搞科研，就是对她黄明玉最好的缅怀。

同时，黄明玉将自己毕生的积蓄和科研奖励，

全部捐给了光刻胶研发项目。

落红不是无情物，化作春泥更护花。

黄明玉，堪称国士。

黄老的离去，对所有人都是莫大的冲击。

所有人的心里都憋着一股劲儿。

光刻胶真就那么难？

北辰国倾全国之力，

都没有办法突破分毫？

目前最大的问题，还是EUV光刻胶的配方。

材料方面的局限性，其实已经限制不大。

经过前期的磨合，

研发团队已经相互熟悉，

几乎是连轴转了两月有余。

研发团队里的骨干，也在这个过程中逐步显现。

分别是郝爱民和龚俊林两位院士，

以及他们的得意门生，游政和李济。

还沉浸在悲拗情绪中的江雪岚。

以及在光刻胶有着丰厚经验的前北辰积电的前总工程师，陆先才。

还有北辰大学半导体行业的应届博士毕业生，娄善华。

构成了不到二十人的核心团队。

今日，陈星召开光刻胶研发团队的第十七次研发会议。

“汇报下各自进度吧。”

陈星抬起疲惫的眼皮，

这几天他的研发强度进一步加大，

睡眠时间实在太少。

有时候甚至分不清楚是在做梦还是现实。

江雪岚第一个发言，“目前EUV光刻胶前处理方面的技术已经较为成熟，包括wafer表面的杂质微粒清除、晶圆表面烘干干燥以及wafer表面增粘处理。处理方式我们采用了HMDS六甲基二硅胺烷旋涂，也是业界内的通用方法。

游政见江雪岚发言完毕，“涂料方面，为了在晶圆表面建立薄的、均匀的，并且没有缺陷的光刻胶膜，一般采用静态旋转涂胶和动态喷洒涂胶相结合的方式。

“软烘烤方面的技术难题也已经攻克，如今已经能实现膜内溶剂挥发，进而使得光刻胶与衬底之间的粘附性、光吸收及抗腐蚀能力增加。”

应届毕业生娄善华汇报道，他的博士课题涉及光刻胶的软烘烤技术，

因此他常常和妹妹介绍自己为烹饪专业的高材生。

靠这一招，倒是追到了几个心仪的女生。

“其他人呢？进度怎样。”

陈星还算满意。

“显影技术，我们早些年就实现了突破，北辰国产的显影剂，已经能溶解掉不需要的光刻胶。”

陆先才算是这里，对北辰国光刻胶当前技术总体水平，最了解的一个。

倒也为团队节省了大量的时间。

“硬烘烤和检验方面，也没有问题。当前的检验水准，已经足以查找到光刻胶中成型图形的缺陷，并且可以除去有缺陷的晶圆。”

“那就是当前其他问题都不大，最卡脖子的，在于光刻胶的配方。”

郝爱民点出了问题的关键。

“光刻胶的配方，无论在哪个国家的半导体行业，都称得上是最高机密了。我们派出去过很多人，去西川国和东印国留学，其他技术人家可能还给你透露个一星半点，至于光刻胶的配方？想都别想。”

龚俊林太知道这些外企的调性了，转而看向陈星，“陈教授，你之前提供的光刻胶配方，在我看来，已经足够投入一步研发了，我们还在等什么？时不我待啊，现在全北辰国的目光，都在盯着我们。”

“是啊陈星，其他环节在我们的集体攻关下，都已经实现了不小的跃迁，EUV光刻胶，按道理已经能生产出来样品。”郝爱民劝说道。

“再等等。”