第76章 光刻机，北辰国之痛（2 / 2）

像是龙脊生出的副足。

“太乙，是北辰的骄傲。”陶西文昂首，“六十余项专利全部是北辰自主，真正做到了不必再受制于人。”

“着实震撼。”陈星由衷点头，“近代物理所几代人的心血才研发出来的加速器，果然不同凡响。”

“陈院士，也别怪我自卖自夸。是太乙着实优秀。我们与那西川国的差距，就是差在芯片上。北辰国的半导体领域，还是太差了。”陶西文长叹一声，“未来的重离子加速器，需要更多学科交叉，远程医疗、5G、云诊疗平台开发，都离不开芯片。”

“主要是高端芯片，现在但凡是能通电的智能设备，都离不开芯片。”

陈星也深有体会。

想起来国家还欠自己一台北辰四号，那里面的芯片，估计代表的是北辰国最高水准了。

一旦在芯片领域实现突破，那么北辰国的各行各业，都会在极短时间内，实现科技的跃迁。

“半导体行业发展任重道远，上下中游产业错综复杂，北辰国最大的痛点和短板，就在光刻机。”陶西文显然也有颗忧国忧民的心。

“是啊，光刻机是生产芯片最基础的设备，这方面不突破，一切都是空中楼阁。”

俗话说基础不牢，地动山摇。

一老一少两位科学家，同时感受到了紧迫性。

“如今芯片进口还是消耗北辰外汇储备最大的行业，必须得扭转这一趋势。”

“目前制造芯片最先进的光刻机技术，是西川国阿森玛集团的EUV技术，属于全球独家，真正意义上实现了垄断。一个制造行业，毛利润达到了恐怖的四十四点七，像蔚蓝星销量最广的汽车品牌通用，毛利也不过百分之八。”陶西文眉宇间满是忧虑。

伟大的科学家，一定是先天下之忧而忧，后天下之乐而乐的。

“阿森玛集团花了二十年的时间才实现了成熟的EUV技术，而我北辰国的未来，又在何方？”

陈星沉默了许久，像是在脑海里思索什么东西。

“根据瑞利判据，一个光学系统，能够分辨的尺寸，正比于光的波长。想要制造出更小的尺寸，你就得能分辨出更小的尺寸，也就是说，光的波长需要越来越短。光刻机的顶级难题，在于让波长更短。”

陈星的脑海就像是座浩瀚无穷的宝库，而这一切，都源自于他青年时期孜孜不倦地学习，如饥似渴地积累。

“起初光刻机使用的光波长193nm，叫做DUV，其实也就是深紫外光外文名称的缩写。DUV的出现，让人们几乎认为，这就是光刻机的极限了。而EUV技术，极紫外光，把可用光的波长缩小到了13.5纳米。EUV技术虽然依旧使用的是DUV193nm光源，但是用光的脉冲去击打液态的金属锡，就可以激发出波长更短的光。迈出这一步，又花了整整五年。”

“光脉冲击打液态金属锡的方法，很早就试验成功，但是光的强度一直不够。直到二次打击理论的出现，才让EUV技术逐渐趋于完善。第一次光脉冲负责把金属液滴打平，这样就能扩大第二次打击的面积。从而激发出波长更短的光。”

金属液体只有20微米大小，而且从空中掉落，需要用高频重复每秒五万次的光脉冲精准无误地连续打击两次，才能激发成功。

难度可想而知。

制造光只是基础，接下来需要用各种光学装置过滤杂光，同时改变光行进的方向。

“而控制光路的镜子，可能是宇宙中最光滑的人造结构，其制造工艺，也只有西川国独自掌握。”

“那镜子，工艺要求很高吗？”陈星询问。

“何止是要求很高。”陶西文激动起来，“如果把镜子放大到蔚蓝星那么大，那上面只能有一根头发丝那样的小凸起，而且镜子四十层，由于误差会累积，必须将光滑程度提到最高。”

这些光学镜子都是特殊材料制成，别看只有三十厘米，却能做到只反射波长为13.5纳米的光。

而euv技术产生的光强太容易被吸收了，每次反射都会损失掉百分之三十的光强，最终可用的光强，只有百分之二。

耗用电力方面，也夸张到惊人。

必须要有足够稳定强力的能源，才能维持光刻机的运转。

“而且整个过程中，要绝对精准，不像是程序那样就算有很多小bug，也不用去管。光刻机只要有一点点纳米级的小错误，都会让整个生产批次报废。因此检测系统，也至关重要。”

陶西文越讲越悲观。

像是光刻机这种一步一个坑。

处处是壁垒的感觉。

给人的挫败感太强了。

“光刻机的厂房需要黄光，绝对无尘，需要极好的冷却设施......这些零零碎碎的要求，任何一个都足以让其余的工作前功尽弃。一旦投入生产，”

“可以说，芯片和光刻机，已经是在人类文明的极限反复试探了。”陈星感慨，“没有一个国家，能够独立生产光刻机，研发芯片。必须举整个蔚蓝星之力，才能实现技术的再度跃迁。”

“可现在是，北辰国啥都没有，人家凭什么带你入场？”