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第171章 都搞定了(2 / 2)

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张振兴立刻拿起桌子上的报告,看完之后,一脸的震惊!

“二维单晶石墨烯材料?140皮米?”张振兴说道。

“没错,二维的单晶石墨烯材料,材料厚度几乎可以忽略不计,键长142皮米,因为和硅元素属于同族元素,与纯度达到20个九的单晶硅有很好的贴合性,因为它的导电性正好可以减少电阻,弥补硅的发热问题,同时可以提高运行速度。”

“可是,这样一来,紫外光的强度又成倍数增加,而且,因为碳的光学特性,使它被吸收的更多,这样原本激光光源能够达到要求吗?”

听到张振兴的话,陈阳忍不住感叹,不愧是研究芯片的,提的问题都一针见血!

“为了能够实现高强度的光刻,我们使用波长更短,更加“锋利”的终极紫外光。”

“什么?终极紫外光?”张振兴一脸的不解。

“没错。紫外光的波长范围在10-216纳米之间,之前使用的光源在197纳米的深紫外光,现在光刻机使用的都是13。5纳米极紫外光源,而这还不够,我们用的终极紫外光就是紫外光的极限10纳米终极紫外光。”

“不可能!绝对不可能!”张振兴脱口而出道。

“现在用激光轰击锡液滴获得13、5纳米的极紫外光已经是达到了极限,而且,耗电量达到了惊人的恐怖程度,若是想要获得波长更短,强度更大的终极紫外光,那耗电量岂不是比现在的还要高很多!而且,还要求对光学掩膜发射器达到令人发指的地步,这些……都……”

“都已经突破了!你没发现咱们的这个芯片工厂建在了黑龙基地旁边吗?等到可控核聚变电站运转,电量根本不是问题。”

“至于要求更高的光学掩膜,你看看这个。”说完,陈阳把一个样品送到了张振兴面前。

“这是咱们现在利用芥子扫描显微镜下,动态化学法磨出的平整度 ±10皮米的掩膜器,相当于一个太平洋那么大面积的玻璃,凹凸误差在10皮米以下!可以大幅度的反射终极紫外光,但是,对其他的光,却可以全部吸收!”

听到这话,张振兴震惊了!

看着那些东西,过了半晌才反应过来!

“这些技术您真的全都突破了?”

这得多少工艺创新点,这得多少创新成果?

光源,栅极构造,光学掩膜器……任何一项,都是重大突破,竟然全部被陈教授一个人搞定了?

“不然呢?要不然咱也没必要非得制造1纳米制程工艺点的光刻机啊。”陈阳笑着说道。

“好,我马上把这些工作全部分发下去,保证在一个星期!不!三天!三天内把成果交个您。”

“好!辛苦了!”

“不!和您的工作比起来,我们这些,不值一提!”张振兴激动道。

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